Applicazione di componenti al quarzo di precisione nei semiconduttori

Nell'industria dei semiconduttori, il quarzo è ampiamente utilizzato. E i prodotti al quarzo ad alta purezza sono materiali di consumo importanti nella produzione di wafer. L'applicazione principale dei componenti al quarzo nel campo dei semiconduttori è il processo di diffusione e incisione nella fonderia di wafer, che può essere diviso in dispositivi di zona ad alta temperatura e dispositivi di zona a bassa temperatura. I dispositivi principali che saranno utilizzati sono i segue:

I dispositivi del filtro nella zona ad alta temperatura sono principalmente tubi del forno, barche in vetro, ecc. utilizzati nell'ossidazione a diffusione e in altri processi. Hanno bisogno di essere a contatto diretto o indiretto con wafer di silicio in un ambiente ad alta temperatura. Dopo l'acquisto di materiali in vetro di silice fuso, questi dispositivi saranno prodotti mediante lavorazione termica.

Quando si controlla lo stress residuo interno del tubo di silice fusa nella figura sotto, si consiglia di utilizzare un quantitativo manualePolariscopio in vetro(Modello n. PSV-413). Puoi vedere in modo intuitivo e chiaro dove lo stress è concentrato e misurare il valore di ritardo ottico causato dall'esistenza dello stress. Nella figura 1, lo stress è concentrato nella posizione blu. Quando ci passa al metodo di misurazione quantitativa (metodo senarmont), l'area blu nella figura 1 trasforma l'area bianca nella figura 2. Quando girabiamo lentamente la scala sull'analizzatore superiore, il colore dell'area bianca nella figura 2 si scurisce gradualmente fino a quando non si trasforma nell'area marrone scuro nella figura 3.

Figura 1

Figura 2

Figura 3

Carburatore i dispositivi nella zona a bassa temperatura sono principalmente anelli al quarzo nel processo di incisione, e cestini per fiori e serbatoi di pulizia durante il processo di pulizia. Dopo l'acquisto di vetro al quarzo raffinato a gas, questi dispositivi vengono prodotti mediante lavorazione a freddo. Il serbatoio di pulizia al quarzo nella foto sotto è realizzato mediante cottura a mano. Durante il controllo dello stress residuo interno, si consiglia di utilizzare un polariscopio portatile ingrandito (modello n. PSV-202-DL).